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        • 感應爐CY-GYL-15是一款頂部帶有真空吸鑄裝置的15KW感應加熱/熔化系統。這種獨特的結構設計通...
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        • 1700℃管式爐采用高質量硅鉬棒作為加熱元件,加熱溫度可高達1700℃,爐管管徑為50mm,采用高純...
        • 帶過渡艙三靶磁控濺射...
          本設備為三靶磁控鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用,也可實驗室SEM樣品制備
          光纖繞絲單靶磁控濺射...
          單靶磁控光纖繞絲濺射鍍膜儀是一種用于制備薄膜的設備。它可以在基板表面形成均勻、致密、薄且具有特定性質的膜層
          三靶向上磁控濺射鍍膜...
          三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介電薄膜、光學薄膜、氧化膜、硬薄膜、聚四氟乙烯薄膜等
          雙靶磁控濺射鍍膜儀
          雙靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該雙靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比,其不僅應用廣泛,且具有體積小便于操作的優點,是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備
        • 卷繞式高真空蒸發鍍膜...
          卷繞式蒸發鍍膜儀可用于不同種類的材料的薄膜生長,大多數金屬和某些有機材料薄膜,如金屬、半導體、氧化物等
          半導體薄膜電子束蒸發...
          電子束蒸發方式鍍膜設備,主要用于制備各種導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜,微納器件微加工,電鏡樣品預處理等,尤其適用蒸鍍各種難熔金屬材料
          OLED有機無機蒸發...
          六源蒸發鍍膜儀以金屬/有機源蒸發為主體,適用于實驗室制備金屬單質、氧化物、介電質、半導體膜等
          高真空水冷熱蒸發鍍膜...
          高真空蒸發鍍膜儀,鎢絲籃(或鎢舟)用作蒸發源,并且樣品臺和蒸發源之間的距離是可調的。 該儀器可以穩定地蒸發金屬和某些有機物。 采用高真空不銹鋼腔體,密封性能好,真空性能好。 該腔室配有觀察窗,因此可以看到涂層過程。 采用分子泵系統的**真空10E-5Pa,可有效提高涂層質量,并能滿足大多數蒸發涂層實驗所需的真空環境
        • 鎳鈷合金中頻感應熔煉...
          中頻感應熔煉爐功能全 面、熔煉快速、使用方便、節能環保,非常適合實驗室進行金屬樣品研究。廣泛應用于大專院校及科研單位等在真空或保護氣氛條件下對金屬材料(如 不銹鋼、鎳基合金、銅、合金鋼、鎳鈷合金、稀土釹鐵錋等)的熔煉處理和制備,也可進行合金鋼的真空精煉處理及精密鑄造
          中頻真空感應熔煉爐
          中頻真空感應熔煉爐是真空冶金領域中應用*廣的設備之一。事實證明:宇航、導彈、火箭、原子能設備和電子工業所需要的合金和特殊鋼,占有相當比例的產品是采用真空感應熔煉爐生產出來的,例如,鎳基、鈷基、鐵基高溫合金采用真空感應熔煉爐工藝熔煉時,其熱加工性能和機械性能明顯提高
          2600度150克真...
          真空感應懸浮熔煉爐是將分瓣水冷銅坩堝置于強大的交變磁場中,利用感應渦流加熱水冷銅坩堝中的金屬使其融化,依靠電磁力使熔融金屬與水冷銅坩堝不產生密切接觸
          2200度500g真...
          真空感應懸浮熔煉爐是將分瓣水冷銅坩堝置于強大的交變磁場中,利用感應渦流加熱水冷銅坩堝中的金屬使其融化,依靠電磁力使熔融金屬與水冷銅坩堝不產生密切接觸
        • 換位自轉等離子鍍膜儀
          本型號等離子濺射儀,采用二級濺射方式,廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗,本設備配備換位自轉式樣品臺,用戶可以在觸控屏上實現一鍵換位,樣品臺可在兩個靶位自由切換,本設備體積小巧造型美觀功能強大,是實驗室鍍膜試驗的最佳選擇。
          三靶等離子濺射鍍膜儀...
          本型號小型等離子濺射儀,采用二級濺射方式,廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗。采用低溫等離子體濺射工藝,鍍膜過程中無高溫,不易產生熱損傷。該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統,全部觸摸屏操作,便于學習使用。本型號儀器還配有旋轉樣品臺,能夠有效的提升鍍膜的均勻性。(本設備配有旋轉加熱樣品臺,可以提升鍍膜的均勻性和薄膜的附著力)該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統,全部觸摸屏操作,便于學習使用。設備體積小巧造型美觀,是實驗室鍍膜試驗的最佳選擇。
          三靶等離子濺射鍍膜儀...
          本型號小型等離子濺射儀,采用二級濺射方式,廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗。采用低溫等離子體濺射工藝,鍍膜過程中無高溫,不易產生熱損傷。該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統,全部觸摸屏操作,便于學習使用。本型號儀器還配有旋轉樣品臺,能夠有效的提升鍍膜的均勻性。該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統,全部觸摸屏操作,便于學習使用。設備體積小巧造型美觀,是實驗室鍍膜試驗的最佳選擇。
          三靶等離子濺射鍍膜儀...
          本型號小型等離子濺射儀,采用二級濺射方式,廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗。采用低溫等離子體濺射工藝,鍍膜過程中無高溫,不易產生熱損傷。該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統,全部觸摸屏操作,便于學習使用。本型號儀器還配有旋轉樣品臺,能夠有效的提升鍍膜的均勻性。(本設備配有旋轉樣品臺,可以提升鍍膜的均勻性)該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統,全部觸摸屏操作,便于學習使用。設備體積小巧造型美觀,是實驗室鍍膜試驗的最佳選擇。
        • 全自動多層鈣鈦礦旋轉...
          全自動多層鈣鈦礦旋轉涂層機適用于鈣鈦礦材料的涂膜,半導體、晶體、光盤、制版等表面涂覆工藝
          12寸不銹鋼腔體加熱...
          旋涂儀是一種實驗室設備,主要用于制備薄膜材料,其應用范圍包括制備太陽能電池,制備金屬、半導體、氧化物、聚合物等材料的薄膜,制備納米材料、納米結構、納米薄膜等
          8寸勻膠機帶6通道獨...
          勻膠機可以將液態或膠體材料涂覆在硅片、晶體、石英、陶瓷等基片上形成薄膜,主要應用于光刻膠旋涂、生物培養基制作、溶膠凝膠法制作高分子薄膜等領域
          全自動超聲波氣氛加熱...
          超聲波氣氛加熱勻膠機是一款直徑300mm、靈活的旋轉勻膠設備,可通過超聲波噴頭把膠液噴灑在基片上,進而通過高速旋轉使得膠液均勻涂覆在基片上。加熱勻膠機也可以單獨進行旋涂操作
        • 鋰離子電池狹縫擠出型...
          狹縫擠出型涂布機,可進行連續和間歇涂布等類型的涂布要求。設備涂布精度高,一致性穩定性好,廣泛應用于鋰離子電池、石墨烯薄膜、光學薄膜、陶瓷薄膜、**膠帶以及各種功能薄膜行業
          小型加熱型線棒涂布機
          小型加熱型線棒涂布機廣泛用于各種高溫涂膜研究,例如陶瓷類薄膜、晶體類薄膜、電池材料薄膜、特殊納米薄膜;能夠適應未來高溫條件下成膜的科學技術的發展
          鋰電池雙面浸涂實驗涂...
          雙面浸涂實驗涂布機是一款采用浸漬涂布工藝的涂布機,可應用于鋰離子電池、石墨烯薄膜、陶瓷薄膜、**膠帶以及各種功能薄膜行業
          全自動電極鍍膜卷對卷...
          自動卷對卷涂布機主要適用于磷酸鐵鋰、鈷酸鋰、錳酸鋰等體系的正負極鍍膜工藝
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