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雙靶磁控濺射鍍膜儀雙靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該雙靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作的優點，是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備
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高真空水冷熱蒸發鍍膜...高真空蒸發鍍膜儀，鎢絲籃（或鎢舟）用作蒸發源，并且樣品臺和蒸發源之間的距離是可調的。 該儀器可以穩定地蒸發金屬和某些有機物。 采用高真空不銹鋼腔體，密封性能好，真空性能好。 該腔室配有觀察窗，因此可以看到涂層過程。 采用分子泵系統的**真空10E-5Pa，可有效提高涂層質量，并能滿足大多數蒸發涂層實驗所需的真空環境
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鎳鈷合金中頻感應熔煉...中頻感應熔煉爐功能全 面、熔煉快速、使用方便、節能環保，非常適合實驗室進行金屬樣品研究。廣泛應用于大專院校及科研單位等在真空或保護氣氛條件下對金屬材料（如 不銹鋼、鎳基合金、銅、合金鋼、鎳鈷合金、稀土釹鐵錋等）的熔煉處理和制備，也可進行合金鋼的真空精煉處理及精密鑄造
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中頻真空感應熔煉爐中頻真空感應熔煉爐是真空冶金領域中應用*廣的設備之一。事實證明：宇航、導彈、火箭、原子能設備和電子工業所需要的合金和特殊鋼，占有相當比例的產品是采用真空感應熔煉爐生產出來的，例如，鎳基、鈷基、鐵基高溫合金采用真空感應熔煉爐工藝熔煉時，其熱加工性能和機械性能明顯提高
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換位自轉等離子鍍膜儀本型號等離子濺射儀，采用二級濺射方式，廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗，本設備配備換位自轉式樣品臺，用戶可以在觸控屏上實現一鍵換位，樣品臺可在兩個靶位自由切換，本設備體積小巧造型美觀功能強大，是實驗室鍍膜試驗的最佳選擇。
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三靶等離子濺射鍍膜儀...本型號小型等離子濺射儀，采用二級濺射方式，廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗。采用低溫等離子體濺射工藝，鍍膜過程中無高溫，不易產生熱損傷。該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統，全部觸摸屏操作，便于學習使用。本型號儀器還配有旋轉樣品臺，能夠有效的提升鍍膜的均勻性。（本設備配有旋轉加熱樣品臺，可以提升鍍膜的均勻性和薄膜的附著力）該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統，全部觸摸屏操作，便于學習使用。設備體積小巧造型美觀，是實驗室鍍膜試驗的最佳選擇。
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三靶等離子濺射鍍膜儀...本型號小型等離子濺射儀，采用二級濺射方式，廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗。采用低溫等離子體濺射工藝，鍍膜過程中無高溫，不易產生熱損傷。該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統，全部觸摸屏操作，便于學習使用。本型號儀器還配有旋轉樣品臺，能夠有效的提升鍍膜的均勻性。該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統，全部觸摸屏操作，便于學習使用。設備體積小巧造型美觀，是實驗室鍍膜試驗的最佳選擇。
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三靶等離子濺射鍍膜儀...本型號小型等離子濺射儀，采用二級濺射方式，廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗。采用低溫等離子體濺射工藝，鍍膜過程中無高溫，不易產生熱損傷。該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統，全部觸摸屏操作，便于學習使用。本型號儀器還配有旋轉樣品臺，能夠有效的提升鍍膜的均勻性。（本設備配有旋轉樣品臺，可以提升鍍膜的均勻性）該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統，全部觸摸屏操作，便于學習使用。設備體積小巧造型美觀，是實驗室鍍膜試驗的最佳選擇。
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全自動超聲波氣氛加熱...超聲波氣氛加熱勻膠機是一款直徑300mm、靈活的旋轉勻膠設備，可通過超聲波噴頭把膠液噴灑在基片上，進而通過高速旋轉使得膠液均勻涂覆在基片上。加熱勻膠機也可以單獨進行旋涂操作
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快速退火爐功能
快速退火爐是一種用于金屬熱處理的高效設備。它通過控...[詳情]
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